電子ビームマスク描画装置の次世代装置開発リーダー/フルフレックス/世界シェア90%超半導体製造装置メーカー/福利厚生充実
この求人にエントリーする
求人No. 163760
募集要項
業務内容 |
【業務内容】 電子ビームマスク描画装置における次世代装置のシステム開発、要素開発業務などをご経験に合わせてお任せします。 上流工程の研究開発、設計から事業化(製品化)に至る顧客対応まで、次世代装置の開発リーダーとして幅広く活躍いただきます。 海外のお客様とのやり取りが多く、学会なども国際学会がほとんどであるため、業務の中では英語を用いてコミュニケーションをとっていただくシーンがございます。 【具体的には】 ・次々世代描画装置のシステム・要素開発 次々世代描画装置のリリースに向け、お客様との折衝やマーケット調査を通して装置の企画・検討を行いながら技術ロードマップを作成いただきます。 *他部署と協業しながら装置リリースに向けた企画業務となります。 また、次々世代装置に必要なキーパーツの要素開発を先行して行うための企画検討を行う業務も兼ねます。 ・次世代描画装置におけるシステム・要素開発 技術ロードマップから直近必要な次世代描画装置のシステム設計仕様をまとめ、他部署に要求仕様を提案し、開発の進捗管理、開発に必要な設備提案、開発されたシステムが仕様を満たしているか評価・検討して他部署やプロジェクトそのものをまとめあげるプロジェクトリーダー/マネージャー業務となります。 次世代装置を顧客や学会発表でプレゼンし、次世代装置に対するVOCをキャッチし、社内にフィードバックして装置性能を早期に向上させるミッションも重要な業務となります。 *これまでの経験・スキルの範囲を活かして上記業務に携わっていただきます。 【採用背景】 半導体の微細化の進展により、回路パターンを転写する原版となるフォトマスクの需要が拡大する中で、主力製品である電子ビームマスク描画装置の需要が拡大しています。 従来のシングルビーム描画装置に加え、微細化に対応したマルチビーム描画装置の更なる進展を進め、独自技術を次々に適用することによって需要にこたえていく必要があります。 こうした顧客ニーズに対応する為、生産性の高い製品を開発投入していくことが必要です。 【充実の研修・育成制度】 OJTによる丁寧な実務フォローをはじめ、学びの場を多数ご用意しています。 各種研修や部門の中で勉強会も開催。 半導体製造装置や環境、品質などテーマは多岐にわたります。 1on1による業務支援(月1回、30分程度)もございます。 【職場の魅力】 電子ビームマスク描画装置は、半導体の回路パターンを転写する原版となるフォトマスクを製造する設備で、メモリーや先端ロジックの企業やファウンダリー企業、マスク専業メーカーなどが顧客となります。 フォトマスクは、製品数の増加による需要増などにより、今後も拡大が期待されています。 これに伴い、従来から市場を牽引してきたシングルビームのマスク描画装置も、一定の装置需要が毎年見込まれています。 加えて、7nm以下の微細プロセスの半導体の製造に必要なマスクは大幅に需要が伸びることから、マルチビームのマスク描画装置の需要も大きく拡大する見込になっています。 次世代装置としては、処理性能や精度などの技術力、歩留りやダウンタイムの抑制といった生産性は勿論、顧客の生産フェーズまでを見据えた総保有コストの低減を提供していくことが必要となります。 顧客にとって生産性の高い価値ある製品を投入していくことが次世代装置開発に求められる課題となります。 ============================================== 【企業について】 ・同社は、世界トップシェアを獲得している電子ビームマスク描画装置(EBM)をはじめ、マスク検査装置、エピタキシャル成長装置の3製品を中心とした「半導体製造装置」の研究開発から製造、販売、保守まで手掛ける新進メーカーです。 海外売上比率80%以上と世界のグローバル最大手企業を顧客に事業展開を図っており、世界トップクラスの技術開発とモノづくりで、成長性や競争力に富む会社として市場から注目されている会社です。 ・最先端技術の研究開発に力をいれており、技術に対して自由な雰囲気があります。 また、他社の追随を許さない高い技術力を維持するため、研究開発に大きな投資を続けており、研究開発費率22.6%と全製造業平均(4.81%)を大きく上回る比率であり、必要な開発提案であれば開発費注入はいとわず、常に最先端技術開発に携り主導的な開発を進める事ができる環境です。 【製品の強みについて】 ・電子ビームマスク描画装置・マスク検査装置についてスマートフォンやタブレットPCなど、私たちの生活になくてはならない通信機器の高機能化、小型・軽量化に影響を与えている半導体集積回路(LSI)の大量生産に大きく貢献してる装置です。 こうした更なる高密度化、微細化が求められているLSIにおいて、その微細化し複雑になる回路パターンの描画を可能にするのが、当社の電子ビームマスク描画装置であり、半導体そのものの技術革新にとってなくてはならない存在となっております。 現在、市場の9割ものシェアを誇り、更なる装置の技術進化に向けて研究・開発を続けており、未だ世にない最先端の技術に触れたい方にはぴったりの職場となります。 また電子ビームマスク描画装置のコア技術を応用し、マスク検査装置の事業も展開しております。 ■エピタキシャル成長製造装置について 電気自動車で使用される充電器や、通信技術の5G、6Gなどの基地局はエピタキシャル成長装置で製造されるパワー半導体がなければ急速充電あるいは高速通信ができず、また省エネ、脱炭素推進が可能なものとして注目をされております。 同社のエピタキシャル成長装置は最先端かつ技術の高さで競合他社と差別化ができており、非常に製造困難な8インチSiCを製造可能な装置であるため、世界的に有名な海外半導体メーカーより受注を獲得できております。 |
---|---|
語学力 |
要 ・TOEIC800点以上相当の英語スキルをお持ちの方 *海外のお客様とのやり取りが多く、国際学会にも参加するポジションであるため |
年収 |
670万~940万 |
給与 |
月給制 賞与 年2回 月額37万円~55万円 *時間外手当…24時間/月として算出(2022年度全社平均) *経験、能力等を考慮し、同社規定により支給いたします *賞与:/7月、12月 |
雇用形態 |
正社員 |
勤務地 |
神奈川県 |
通勤交通費 |
全額支給 ・公共交通機関の場合、全額支給。 主たる住居の最寄駅から勤務地の最寄駅に至る 6ヶ月定期券代の平均1ヶ月分を毎月支給。 例)1ヶ月通勤費=6ヶ月定期券代/6(端数処理:小数点以下切り上げ) ・新幹線通勤は以下区間で認められます。 ①三島-新横浜 ②熱海-新横浜 ③新富士-小田原 ④三島-小田原 ⑤新富士-新横浜 *自動車通勤は原則不可。ただし、駐在者等の通勤には一部認められる場合あり。 |
休日 |
年間休日125日 完全週休2日制(休日は土日祝日) 夏期休暇、特別休暇、慶弔休暇 有給休暇(初年度は入社時に1~19日※入社月による/最大24日、繰り越し含め最大48日) *有給休暇消化率:約80% 育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度 リフレッシュ休暇:勤続10年、20年、30年に取得 |
福利厚生 |
各種保険完備 ・退職金制度、企業年金 ・財形制度 ・借上げ社宅(適用条件有) ※独身借上社宅制度(35歳まで)、世帯向け借上社宅制度(最大12年間) ・目的型福祉制度(健康づくり、自己啓発、職場コミュニケーション 年間最大30万円補助) ・選択型福祉制度「カフェポイント」(年間5万円分のポイント付与) ・共済会制度 ・保養所、健康診断 ・教育研修制度 ほか |
企業情報
社名 |
株式会社ニューフレアテクノロジー |
---|---|
事業内容 |
半導体製造装置の開発・製造・販売 |
業種分類 |
メーカー/半導体 メーカー/精密・計測機器 |
あなたにぴったりの求人をご案内します
ここにメッセージが入る